|
Для радикальной полимеризации вызываемой светом характерно 3 стадии: инициирование, рост цепи и обрыв цепи.
Для инициирования, как правило, нужны специальныхе добавки, которые под воздействием света способны порождать свободные радикалы.
Рост цепи - последовательное присоединение молекул мономера (M) к активному центру (M*) имеет как правило низкую энергию активации и идет при комнатной температуре.
Обрыв цепи, а в нашем случае нужна пара неспаренному электрону, идет под воздействием специальных добавок (обрывателей цепи).
Молекулярные массы (спепеь полимеризации, длинна цепи) полимеров являются статистическими величинами; их среднее значение и характер молекулярно-массового распределения определяются механизмом полимеризации и могут быть вычислены,
если известна кинетическая схема процесса.
Понятно, что среднее значение определяет разрешение пластин,
а дисперсия молекулярно-массового распределения определяет стабильнось.
Какие выводы можно сделать?
Полимеризация идет на пластине во время экспонирования при постоянной температуре.
От мощности излучения зависит стапень полимеризации ( т.к. скорость обрыва постоянна и определяется добавкой которая замыкает цепь).
На границе растровой точки после окончания экспонирования цепи оборваны.
От экспозиции, зависит как много мономера вступит в реакцию (сколько образованно инициаторов).
В матрице полимера падает активность мономера, ему труднее встретиться с концом цепи. Даже в поликарбонате (оргстекло) находят незамкнутые цепи.
Поэтому пластину подогревают в процессоре до 110 градусов, чтобы закончить реакцию в матрице (в толще полимера). Но главное построить трехмерную структуру из линейных полимеров (сделать крос-линковые связи). Это делает полимер более прочным.
Аналог - вулканизация каучука (природного полимера). Этот процесс не вызывает изменения размера растровых точек, они уже сформированы и цепи на границах уже замкнуты.
Донор свободных радикалов в фотополимерных пластинах не метастабильный, окисляется кислородом, для предотвращения этого есть специальный барьерный слой.
И еще понятно, что пока закрыта информация о точной кинетике и механизме и неизвестны величины дисперсии молекулярно-массового распределения и среднего значения, разрешение и стабильность мы знаем только со слов производителя.
P.S. Чтобы получить устойчивую точку 3-7%, пластины нужно переэкпонировать и иметь хороший фокус (соизмеримый с разрешением, т.е. для 2540 - 10 микрон). Поэтому пластины будут нелинейны и нужна тонкомпенсация. И здесь становится ясным преимущество для фотополимера гибридных растров и стохастики, при тонкомпенсации на них минимальная точка не уменьшается.
|